Siliciumwafers

Welke methode zet FZ-silicium door bestraling met neutronen om, waarbij een deel van het silicium in fosfor verandert tot homogeen n-type?

  1. ANeutronenbestralingsdotering (NTD)
  2. BIonenimplantatie
  3. CThermische diffusie
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: A. Neutronenbestralingsdotering (NTD)

Wanneer silicium met neutronen wordt bestraald, neemt het isotoop Si-30, dat voor circa 3 % aanwezig is, een neutron op en wordt Si-31, dat met een halfwaardetijd van circa 2,6 uur door β-verval in fosfor (P-31) overgaat. Omdat de neutronen het hele kristal gelijkmatig bereiken, worden zeer homogene n-type wafers verkregen met een spreiding van de soortelijke weerstand van enkele procenten of minder, wat met gewone dotering met segregatie niet mogelijk is. Omdat een kernreactor wordt gebruikt, is het aanbod beperkt; ze worden gebruikt voor vermogenscomponenten met hoge spanningsvastheid (thyristors en IGBT's).

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over Siliciumwafers

  1. Welke methode onderdrukt bij de CZ-methode de convectie van de smelt door een magneetveld aan te leggen op de kroes, om onder meer de zuurstofconcentratie te regelen?
  2. Welke omstandigheden worden tijdens het trekken voornamelijk aangepast om de diameter van een monokristallijne siliciumingot constant te houden?
  3. Welke reden waarom SiC-wafers moeilijk te produceren en duur zijn, is juist?
  4. Hoeveel inch wordt een siliciumwafer met een diameter van 300 mm bij benadering genoemd?
  5. Hoe heet de cilindervormige massa monokristallijn silicium, gegroeid met onder meer de CZ-methode, voordat deze tot wafers wordt gesneden?

Vergelijkingen bij dit onderwerp