Siliciumwafers
Welke methode zet FZ-silicium door bestraling met neutronen om, waarbij een deel van het silicium in fosfor verandert tot homogeen n-type?
- ANeutronenbestralingsdotering (NTD)
- BIonenimplantatie
- CThermische diffusie
Antwoord en toelichting tonen
Antwoord: A. Neutronenbestralingsdotering (NTD)
Wanneer silicium met neutronen wordt bestraald, neemt het isotoop Si-30, dat voor circa 3 % aanwezig is, een neutron op en wordt Si-31, dat met een halfwaardetijd van circa 2,6 uur door β-verval in fosfor (P-31) overgaat. Omdat de neutronen het hele kristal gelijkmatig bereiken, worden zeer homogene n-type wafers verkregen met een spreiding van de soortelijke weerstand van enkele procenten of minder, wat met gewone dotering met segregatie niet mogelijk is. Omdat een kernreactor wordt gebruikt, is het aanbod beperkt; ze worden gebruikt voor vermogenscomponenten met hoge spanningsvastheid (thyristors en IGBT's).