Wat is de belangrijkste functie van de notch (kleine uitsparing) aan de rand van een siliciumwafer?

Antwoord: A. Aangeven van de referentie voor de kristaloriëntatie

De notch is een V-vormige uitsparing van ongeveer 1 mm diep aan de rand van de wafer en dient als merkteken voor de kristaloriëntatie (bijvoorbeeld de <110>-richting). De apparatuur detecteert de notch en lijnt de wafer uit, zodat patronen in de juiste richting ten opzichte van de kristaloriëntatie worden gemaakt. Dit is belangrijk, omdat etssnelheid en mobiliteit van de kristaloriëntatie afhangen. Bij wafers van 150 mm en kleiner werd een orientation flat gebruikt, waarbij een deel van de rand recht is afgeslepen; deze is vervangen door de notch om verspilling van oppervlak te verminderen.