Siliciumwafers

Welke typische productiemethode voor SOI-wafers is juist?

  1. ASilicium wordt alleen thermisch geoxideerd om een begraven oxidelaag te maken
  2. BDe wafer wordt gesmolten en opnieuw gekristalliseerd
  3. CEen wafer waarin waterstofionen zijn geïmplanteerd wordt op een andere wafer gebonden en op de implantatiediepte afgesplitst, zodat een dunne siliciumlaag overblijft
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: C. Een wafer waarin waterstofionen zijn geïmplanteerd wordt op een andere wafer gebonden en op de implantatiediepte afgesplitst, zodat een dunne siliciumlaag overblijft

Bij de Smart-Cut-methode wordt een wafer waarvan het oppervlak thermisch is geoxideerd en waarin waterstofionen tot een diepte van enkele honderden nm zijn geïmplanteerd, op een draagsubstraat gebonden. Bij een warmtebehandeling van enkele honderden °C vormt de geïmplanteerde waterstof microscopische holten die zich tot een laag verbinden, waarna de wafer op die diepte splitst en een SOI-wafer met een dunne monokristallijne siliciumlaag op het oxide overblijft. Het oppervlak wordt met CMP afgewerkt en de dikte wordt op enkele nm nauwkeurig ingesteld. De overgebleven afgesplitste wafer kan worden herpolijst en hergebruikt.

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over Siliciumwafers

  1. Welke kristaloriëntatie wordt in het algemeen gebruikt voor siliciumwafers voor CMOS-LSI's?
  2. Welk verband tussen de soortelijke weerstand van een siliciumwafer en de concentratie van de toegevoegde onzuiverheid is juist?
  3. Welke waarde ligt het dichtst bij de standaarddikte van een siliciumwafer van 300 mm?
  4. Wat is het belangrijkste doel van het regelen van de verhouding (V/G) tussen de treksnelheid van het kristal en de temperatuurgradiënt in het kristal bij de CZ-methode?
  5. Wat is de typische productiemethode voor zeer zuiver polykristallijn silicium?

Vergelijkingen bij dit onderwerp