Siliziumwafer
Welche Hauptaufgabe hat die Kerbe (Notch, kleine Aussparung) am Rand eines Siliziumwafers?
- ASie zeigt die Referenz der Kristallorientierung an
- BSie macht den Wafer leichter
- CSie lässt Reinigungsflüssigkeit abfließen
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Antwort: A. Sie zeigt die Referenz der Kristallorientierung an
Der Notch ist eine V-förmige Aussparung von etwa 1 mm Tiefe am Waferrand und markiert die Kristallorientierung (z. B. Richtung <110>). Die Anlage erkennt den Notch, richtet den Wafer aus und erzeugt Muster in der korrekten Ausrichtung zur Kristallorientierung. Das ist wichtig, weil Ätzgeschwindigkeit und Beweglichkeit von der Kristallorientierung abhängen. Bei 150 mm und darunter wurde ein am Rand teilweise geradlinig abgeschliffener Orientation Flat verwendet, der zur Verringerung der Flächenverschwendung durch den Notch abgelöst wurde.