Welke laag wordt bij ArF-immersiebelichting boven op de fotoresist aangebracht om te voorkomen dat het immersiewater en de resist rechtstreeks in contact komen?

Antwoord: C. Topcoat

Bij immersiebelichting komt het water tussen lens en wafer in contact met de resist, waardoor fotozuurgeneratoren e.d. in het water kunnen oplossen en de lens verontreinigen, of water kan insijpelen en patroondefecten veroorzaken. De topcoat is een beschermlaag op de resist die dit voorkomt en het oppervlak waterafstotend maakt, zodat bij de snelle beweging van de stage geen water achterblijft. BARC is een anti-reflectielaag onder de resist en de pellicle is een dun vlies ter bescherming van het masker.