Nederlands
Menu

Procesmaterialen (gassen, chemicaliën)

Welk gas, dat in een halfgeleiderfabriek in een van de grootste hoeveelheden wordt gebruikt, wordt via leidingen geleverd als spoel- en atmosfeergas?

  1. AFosfine
  2. BStikstof (N2)
  3. CStikstoftrifluoride (NF3)
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: B. Stikstof (N2)

Stikstof is inert en goedkoop en wordt in grote hoeveelheden gebruikt voor het spoelen van apparatuur en leidingen, het vervangen van de atmosfeer in FOUP’s en apparatuur en de bescherming van vacuümpompen. Grote fabrieken plaatsen op het terrein of ernaast een luchtscheidingsinstallatie en leveren via leidingen. Omdat het in grote hoeveelheden wordt gebruikt, kan bij lekkage in een kleine ruimte de zuurstofconcentratie onder 18 % dalen en bestaat gevaar voor zuurstofgebrek. Fosfine en NF3 zijn speciale procesgassen die alleen in bepaalde processen worden gebruikt.

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over Procesmaterialen (gassen, chemicaliën)

  1. Welke laag wordt bij ArF-immersiebelichting boven op de fotoresist aangebracht om te voorkomen dat het immersiewater en de resist rechtstreeks in contact komen?
  2. Welk materiaal is een typisch voorbeeld van een low-k-tussenlaagdiëlektricum?
  3. Welk materiaal met hoge zuiverheid en uitstekende hittebestendigheid wordt veel gebruikt voor reactiebuizen van ovens en voor hulpmiddelen waarop wafers worden geplaatst?
  4. Welke waterige oplossing wordt gewoonlijk gebruikt voor het ontwikkelen van fotoresist?
  5. Wat is de belangrijkste reden dat als ontwikkelaar voor halfgeleiders een organisch alkali zoals TMAH wordt gebruikt in plaats van natriumhydroxide e.d.?