Welk materiaal is een typisch voorbeeld van een low-k-tussenlaagdiëlektricum?

Antwoord: A. Een laag op basis van koolstofhoudend siliciumoxide (SiOC)

Als low-k-lagen worden veel lagen op basis van SiOC gebruikt, waarbij koolstof of methylgroepen in siliciumoxide worden opgenomen zodat het moeilijker polariseert; de relatieve permittiviteit is 2,7 tot 3,0, tegenover ca. 3,9 voor SiO2. De meeste worden met plasma-CVD afgezet. Bij poreuze lagen met fijne holtes kan 2,5 of lager worden bereikt, maar de mechanische sterkte daalt en ze raken gemakkelijker beschadigd door plasma. Koper is een bedradingsmateriaal en titaniumnitride een materiaal voor barrière en hardmasker.