Nederlands
Menu

Oxidatie en diffusie

Hoe heet de behandeling waarbij met plasma gegenereerde stikstof in het oppervlak van een dunne gate-oxidefilm wordt ingebracht?

  1. ADrive-in
  2. BCMP
  3. CPlasmanitridering
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: C. Plasmanitridering

Bij plasmanitridering wordt met stikstofplasma gemaakte actieve stikstof bij een relatief lage temperatuur van enkele honderden °C nabij het oppervlak van de oxidefilm ingebracht, zodat een oxynitridefilm (SiON) met ongeveer 10 tot 20% stikstof ontstaat. Omdat de stikstof aan de oppervlaktezijde geconcentreerd kan worden, wordt de doordringing van boor onderdrukt en de permittiviteit verhoogd om de EOT te verdunnen zonder de eigenschappen van het Si/SiO2-grensvlak (zoals mobiliteit) aan te tasten. Bij thermische nitridering (NO- en N2O-anneal) verzamelt stikstof zich aan het grensvlak.

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over Oxidatie en diffusie

  1. Welke algemene relatie tussen de etssnelheden van thermische oxide en met CVD afgezette oxide is juist bij etsen in dezelfde verdunde fluorwaterstofzuuroplossing?
  2. Welke defecten ontstaan bij thermische oxidatie doordat een overmaat aan interstitieel silicium die door de oxidatie is ontstaan in het silicium wordt geïnjecteerd en daar groeit?
  3. Wat gebeurt er met de dikte van de oxidefilm die in dezelfde tijd wordt verkregen als de temperatuur van de thermische oxidatie wordt verhoogd?
  4. Hoe heet bij LOCOS (selectieve oxidatie) het verschijnsel waarbij de oxidefilm onder de rand van het nitridemasker als een vogelsnavel indringt?
  5. Welk voordeel is juist van thermische oxidatie in een oxiderende atmosfeer met hoge druk?