산화와 확산

얇은 게이트 산화막의 표면에 플라즈마로 생성한 질소를 도입하는 처리를 무엇이라고 합니까?

  1. A드라이브인
  2. BCMP
  3. C플라즈마 질화
정답과 해설 보기

정답: C. 플라즈마 질화

플라즈마 질화에서는 질소 플라즈마로 만든 활성 질소를 수백 ℃ 정도의 비교적 낮은 온도에서 산화막 표면 부근에 도입하여, 질소를 10~20% 정도 포함한 산질화막(SiON)으로 만듭니다. 질소를 표면 쪽에 집중시킬 수 있으므로 Si/SiO2 계면의 특성(이동도 등)을 해치지 않고 붕소의 침투를 억제하며 유전율을 높여 EOT를 얇게 할 수 있습니다. 열 질화(NO·N2O 어닐링)에서는 질소가 계면에 모입니다.

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