Metrologie en analyse

Wat kan worden beoordeeld met C-V-metingen (capaciteit-spanning) van een MOS-condensator?

  1. ALijnbreedte van patronen
  2. BOxidedikte, grensvlaktoestanden, onzuiverheidsconcentratie van het substraat enz.
  3. CAantal deeltjes op het waferoppervlak
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: B. Oxidedikte, grensvlaktoestanden, onzuiverheidsconcentratie van het substraat enz.

Wanneer de capaciteit van een MOS-condensator wordt gemeten terwijl de aangelegde spanning wordt gevarieerd, verandert de capaciteit al naargelang accumulatie, depletie of inversie. Uit de maximale capaciteit Cox aan de accumulatiezijde volgt de oxidedikte als tox = εox·A/Cox; uit de ligging van de curve volgen de flat-band-spanning en de lading in de film, uit het uitgerekt zijn van de curve de dichtheid van grensvlaktoestanden en uit de helling aan de depletiezijde de onzuiverheidsconcentratie van het substraat. Lijnbreedte en aantal deeltjes zijn hieruit niet te bepalen.

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over Metrologie en analyse

  1. Hoe heet de metrologie waarbij licht op een periodiek patroon valt en het spectrum van gereflecteerd en gediffracteerd licht met een model wordt vergeleken om lijnbreedte en doorsnedevorm te bepalen?
  2. Wat kan hoofdzakelijk worden beoordeeld met röntgendiffractie (XRD)?
  3. Wat is het belangrijkste gebruik van een apparaat met gefocusseerde ionenbundel (FIB)?
  4. Welke analysemethode onderzoekt de elementen en chemische bindingstoestand aan het oppervlak uit de energie van fotoelektronen die bij röntgenbestraling vrijkomen?
  5. Welke analysemethode detecteert het zwakke licht dat een defecte plek tijdens bedrijf uitzendt om de foutplek van een LSI te lokaliseren?

Vergelijkingen bij dit onderwerp