Metrologie en analyse
Welk principe wordt gewoonlijk gebruikt in defectinspectieapparatuur die deeltjes en patroondefecten op wafers detecteert?
- AHet detecteren van verstrooid licht bij belichting en het vergelijken van beelden van naburige dies
- BVerandering van het gewicht van de wafer
- CHet geluid bij het tikken op de wafer
Antwoord en toelichting tonen
Antwoord: A. Het detecteren van verstrooid licht bij belichting en het vergelijken van beelden van naburige dies
Wanneer een deeltje aanwezig is, verstrooit het ingestraalde licht, zodat deeltjes worden gevonden door het verstrooide licht te detecteren. Patroondefecten worden gevonden door het beeld te vergelijken met dat van een naburige die met hetzelfde patroon; plaatsen met een verschil zijn defecten. Bij vergelijking van twee dies is niet te bepalen welke slecht is, dus worden drie dies vergeleken en wordt met meerderheid beslist. Gedetecteerde defecten worden met een review-SEM gedetailleerd bekeken en geclassificeerd. Aan gewicht of geluid zijn defecten niet te herkennen.