Messtechnik und Analytik

Welches typische Prinzip wird in Inspektionsgeräten zur Erkennung von Partikeln und Strukturfehlern auf Wafern verwendet?

  1. ADetektion des Streulichts bei Lichteinstrahlung und Vergleich der Bilder benachbarter Dies
  2. BÄnderung des Wafergewichts
  3. CDer Klang beim Anschlagen des Wafers
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Antwort: A. Detektion des Streulichts bei Lichteinstrahlung und Vergleich der Bilder benachbarter Dies

Ein Partikel streut eingestrahltes Licht, daher werden Partikel durch Detektion des Streulichts gefunden. Strukturfehler werden gefunden, indem das Bild mit dem des benachbarten Dies mit gleicher Struktur verglichen wird und Stellen mit Unterschieden als Fehler gelten. Beim Vergleich zweier Dies ist nicht zu entscheiden, welches fehlerhaft ist; daher werden drei Dies verglichen und per Mehrheitsentscheid beurteilt. Erkannte Fehler werden im Review-SEM genau betrachtet und klassifiziert. Gewicht oder Klang verraten keine Fehler.

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