Lithografie
Welke methode om licht van 13,5 nm te maken in de lichtbron van EUV-belichtingsapparatuur is juist?
- AOntlading van een kwiklamp
- BGolflengteomzetting van het licht van een ArF-excimerlaser
- CEen krachtige laser op kleine druppeltjes tin richten om plasma te maken
Antwoord en toelichting tonen
Antwoord: C. Een krachtige laser op kleine druppeltjes tin richten om plasma te maken
In een EUV-lichtbron wordt ongeveer 50.000 maal per seconde een druppel tin met een diameter van ongeveer 30 µm eerst met een zwakke laser plat uitgespreid, daarna met een krachtige CO2-laser getroffen tot een plasma van enkele honderdduizenden °C, en het daaruit komende licht van 13,5 nm wordt met een multilayer-spiegel verzameld (LPP-methode). Doorslaggevend voor massaproductie was dat stabiel een vermogen van 250 W of meer kon worden verkregen. Met waterstofgas wordt voorkomen dat de collectorspiegel vervuilt door rondvliegend tin.