Welke eigenschap van de methode waarbij zonder masker met een elektronenbundel rechtstreeks een patroon op de resist op de wafer wordt geschreven, is juist?

Antwoord: B. Er is geen masker nodig en zeer fijne patronen kunnen worden geschreven, maar het schrijven kost tijd en is dus niet geschikt voor massaproductie

Rechtstreeks schrijven met een elektronenbundel gebruikt elektronen met een golflengte van minder dan een nm, heeft dus geen diffractiegrens van licht en kan zonder masker zeer fijne patronen van 10 nm of minder vormen. Omdat het patroon echter één voor één als in één streep wordt geschreven, kost het voor één wafer van 300 mm soms dagen en is het niet geschikt voor massaproductie. Het wordt gebruikt voor onderzoek en ontwikkeling, kleine prototypes, het maken van fotomaskers en het maken van matrijzen voor nano-imprint.