Nederlands
Menu

Lithografie

Hoe heet het materiaal waarbij op een kwartsglassubstraat vooraf een lichtblokkerende film en dergelijke is aangebracht en dat wordt gebruikt om fotomaskers te maken?

  1. AMask blank
  2. BWafer
  3. CPellet
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: A. Mask blank

Een mask blank is een materiaal waarbij op een kwartsglassubstraat met weinig defecten en een hoge vlakheid (6 inch in het vierkant, ongeveer 6 mm dik) een lichtblokkerende of phase-shift film van chroom, MoSi en dergelijke (voor EUV een multilayer en een absorberfilm) is aangebracht en resist is gecoat. Hierin wordt met een elektronenbundel het patroon geschreven en wordt geëtst om het fotomasker te maken. Vooral voor EUV-blanks worden weinig defecten streng geëist, en Japanse bedrijven zoals HOYA hebben een groot marktaandeel.

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over Lithografie

  1. Welke eigenschap van de methode waarbij zonder masker met een elektronenbundel rechtstreeks een patroon op de resist op de wafer wordt geschreven, is juist?
  2. Welke methode om licht van 13,5 nm te maken in de lichtbron van EUV-belichtingsapparatuur is juist?
  3. Hoe heet de behandeling waarbij na het aanbrengen van resist met spin-coating de aan de rand van de wafer opgehoopte resist met oplosmiddel wordt verwijderd?
  4. Wat is de gebruikelijke maximale grootte van het gebied dat in één belichting (één shot) op de wafer kan worden belicht met huidige scanner-belichtingsapparaten?
  5. Welke techniek verhoogt de resolutie door de belichtingsvorm van het belichtingsapparaat en het maskerpatroon met een computer gelijktijdig te optimaliseren?

Vergelijkingen bij dit onderwerp