Lithografie
Wat is het juiste doel van een phase-shift mask?
- ADe fase van licht dat door naburige openingen gaat veranderen en interferentie gebruiken om resolutie en contrast te verhogen
- BHet masker lichter maken
- CDe belichtingslichthoeveelheid verdubbelen
Antwoord en toelichting tonen
Antwoord: A. De fase van licht dat door naburige openingen gaat veranderen en interferentie gebruiken om resolutie en contrast te verhogen
Een phase-shift mask verschuift de fase van licht dat door een deel van het masker gaat 180°, zodat de amplitude op de grens van licht van naburige patronen wordt opgeheven, donkere delen donkerder worden en het contrast aan de patroongrenzen toeneemt. Er zijn het Levenson-type, waarbij de fase van naburige patronen afwisselend wordt omgekeerd, en het halftone-type, waarbij het lichtblokkerende deel een fase-omkerende film (zoals MoSi) is die een beetje licht doorlaat; het halftone-type wordt veel gebruikt bij ArF-belichting.