Lithografie

Wat is overlay (overlay-nauwkeurigheid) in lithografie?

  1. ADe uniformiteit van de dikte van de aangebrachte resist
  2. BHoe nauwkeurig een nieuw patroon op de juiste positie over een in een voorgaande stap gemaakt patroon kan worden gelegd
  3. CDe variatie in belichtingsdosis
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: B. Hoe nauwkeurig een nieuw patroon op de juiste positie over een in een voorgaande stap gemaakt patroon kan worden gelegd

Een LSI wordt gemaakt door tientallen lagen patronen over elkaar te leggen, dus elke laag moet nauwkeurig op de vorige worden uitgelijnd, en hoe kleiner die afwijking, hoe beter de overlay-nauwkeurigheid. Als richtwaarde is ongeveer 1/4 tot 1/5 van de lijnbreedte vereist, en bij geavanceerde producten enkele nm of minder (enkele tientallen atomen breed). Met uitlijnmarkeringen op de wafer worden positie, rotatie en uitrekking gemeten en gecorrigeerd, en ook thermische vervorming van masker en wafer en door voorgaande processen veroorzaakte vervorming worden meegerekend.

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over Lithografie

  1. Welke eigenschap van chemisch versterkte resist is juist?
  2. Welke verkleiningsfactor wordt bij het projecteren van het maskerpatroon op de wafer in huidige belichtingsapparaten (scanners) gewoonlijk gebruikt?
  3. Welke eigenschap van een scanner-belichtingsapparaat is juist?
  4. Welke eigenschap van het masker voor EUV-belichting is juist?
  5. Welke is de gebruikelijke procesvolgorde in lithografie?

Vergelijkingen bij dit onderwerp