Lithografie
Wat is overlay (overlay-nauwkeurigheid) in lithografie?
- ADe uniformiteit van de dikte van de aangebrachte resist
- BHoe nauwkeurig een nieuw patroon op de juiste positie over een in een voorgaande stap gemaakt patroon kan worden gelegd
- CDe variatie in belichtingsdosis
Antwoord en toelichting tonen
Antwoord: B. Hoe nauwkeurig een nieuw patroon op de juiste positie over een in een voorgaande stap gemaakt patroon kan worden gelegd
Een LSI wordt gemaakt door tientallen lagen patronen over elkaar te leggen, dus elke laag moet nauwkeurig op de vorige worden uitgelijnd, en hoe kleiner die afwijking, hoe beter de overlay-nauwkeurigheid. Als richtwaarde is ongeveer 1/4 tot 1/5 van de lijnbreedte vereist, en bij geavanceerde producten enkele nm of minder (enkele tientallen atomen breed). Met uitlijnmarkeringen op de wafer worden positie, rotatie en uitrekking gemeten en gecorrigeerd, en ook thermische vervorming van masker en wafer en door voorgaande processen veroorzaakte vervorming worden meegerekend.