Geavanceerde transistoren (FinFET, GAA)

Welke uitspraak over wat met 'nanosheet' in een nanosheet-GAA-transistor wordt bedoeld, is juist?

  1. AEen plaatvormige film die de chip beschermt
  2. BEen dun plaatvormig siliciumkanaal van enkele nm dik, dat boven elkaar gestapeld wordt gebruikt
  3. CEen dun metalen plaatje dat voor de gate-isolator wordt gebruikt
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: B. Een dun plaatvormig siliciumkanaal van enkele nm dik, dat boven elkaar gestapeld wordt gebruikt

Een nanosheet is een dun plaatvormig siliciumkanaal van circa 5 nm dik en tien tot enkele tientallen nm breed, waarvan circa drie boven elkaar worden gestapeld en die elk door de gate over de volledige omtrek worden omsloten. Het is als de vinnen van een FinFET die zijn neergelegd en gestapeld, en de stroom kan met de breedte van de sheets worden bijgesteld. De onderlinge afstand van de sheets is circa 10 nm en voor het vullen van die ruimte met gate-isolator en gatemetaal is een geavanceerde afzettingstechniek nodig.

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over Geavanceerde transistoren (FinFET, GAA)

  1. Waar staat de k in 'high-k-gate-isolator' voor?
  2. Welke waarde komt het dichtst bij de effectieve kanaalbreedte (de lengte van de door de gate omsloten omtrek) per vin van een FinFET met een vinhoogte van 50 nm en een breedte van 6 nm?
  3. Welke eis wordt over het algemeen gesteld aan de breedte van de vin om korte-kanaaleffecten bij een FinFET voldoende te onderdrukken?
  4. Waarom wordt bij high-k/metal-gate-transistoren vaak een zeer dunne laag zoals SiO2 tussen het silicium en de high-k-film (zoals een oxidefilm op hafniumbasis) geplaatst?
  5. Wat is de belangrijkste reden waarom III-V-samengestelde halfgeleiders zoals InGaAs zijn onderzocht als kanaalmateriaal voor toekomstige nMOS?

Vergelijkingen bij dit onderwerp