Nederlands
Menu

Etsen

Hoe verandert de etssnelheid bij nat etsen in het algemeen wanneer de temperatuur van de chemische oplossing wordt verhoogd?

  1. AHij verandert niet
  2. BHij wordt hoger
  3. CHij wordt lager
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: B. Hij wordt hoger

Nat etsen verloopt via een chemische reactie, dus een hogere temperatuur versnelt over het algemeen de reactie en verhoogt de etssnelheid. Als vuistregel neemt de snelheid bij 10 °C temperatuurstijging vaak met een factor 1,5 tot 2 toe, en om de weggeëtste hoeveelheid stabiel te houden moet de temperatuur van de oplossing nauwkeurig worden beheerst tot circa ±0,5 °C. Sommige oplossingen worden juist bewust bij hoge temperatuur gebruikt, zoals hete fosforzuur (circa 160 °C) voor het etsen van nitridefilms.

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over Etsen

  1. Hoe heet het verschijnsel dat in bijvoorbeeld capacitief gekoppelde plasmaapparatuur de elektrode aan de waferzijde vanzelf een negatieve gelijkspanningspotentiaal krijgt en ionen naar de wafer versnelt?
  2. Hoe heet de maskermethode waarbij voor het diep bewerken van fijne patronen van onder naar boven een organische film (koolstoffilm), een siliciumhoudende tussenfilm en resist als drie lagen worden gestapeld?
  3. Welk gas kan silicium zonder plasma isotroop etsen, bijvoorbeeld bij het verwijderen van offerlagen in MEMS?
  4. Welke methode maakt het door belichting gevormde resistpatroon met plasma stapsgewijs dunner om lijnen te maken die smaller zijn dan de belichtingslimiet?
  5. Welke maatregel wordt bij het etsen van een gate-elektrode gewoonlijk genomen om de dunne gate-isolator eronder te behouden?

Vergelijkingen bij dit onderwerp