Nederlands
Menu

Etsen

Welke oplossing, een met ammoniumfluoride gebufferd fluorwaterstofzuur, wordt gebruikt voor het nat etsen van SiO2?

  1. ASPM
  2. BHete fosforzuur
  3. CGebufferd fluorwaterstofzuur (BHF)
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: C. Gebufferd fluorwaterstofzuur (BHF)

Gebufferd fluorwaterstofzuur is een oplossing waarin ammoniumfluoride aan fluorwaterstofzuur is toegevoegd om de pH te stabiliseren. De concentratie van het belangrijkste oxide oplossende bestanddeel (HF2⁻) verandert door uitputting van de oplossing nauwelijks, zodat de etssnelheid stabiel is en de resist niet gemakkelijk loslaat. Voor thermisch oxide bedraagt de snelheid enkele tientallen tot 100 nm per minuut. Het wordt gebruikt voor het patroneren van oxide, het verwijderen van natuurlijk oxide en voor de evaluatie van de filmkwaliteit.

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over Etsen

  1. Welke reden waarom etsen met de wafer op zeer lage temperatuur (cryogeen) aandacht krijgt voor bewerkingen met hoge aspectverhouding is juist?
  2. Hoe heet het verwerken van dummywafers vóór productwafers om de toestand te stabiliseren, omdat het bewerkingsresultaat verandert met de toestand van de binnenwand van de etsapparatuur?
  3. Welk voordeel van gepulst plasma, waarbij tijdens het etsen het hoogfrequente plasmavermogen aan en uit wordt geschakeld, is juist?
  4. Welk gas wordt over het algemeen gebruikt voor het droog etsen van GaN?
  5. Welke reden waarom het moeilijk is Cu-bedrading rechtstreeks met droog etsen te bewerken is juist?

Vergelijkingen bij dit onderwerp