Etsen
Welke uitspraak over de kenmerken van atoomlaagetsen (ALE) is juist?
- AMet één bewerking wordt enkele µm snel weggeëtst
- BOppervlaktemodificatie en verwijdering worden afwisselend herhaald, waardoor de etshoeveelheid op atoomlaagniveau wordt geregeld
- CHet is isotroop nat etsen met een chemische oplossing
Antwoord en toelichting tonen
Antwoord: B. Oppervlaktemodificatie en verwijdering worden afwisselend herhaald, waardoor de etshoeveelheid op atoomlaagniveau wordt geregeld
Bij ALE wordt een zelflimiterend proces herhaald waarin eerst alleen de bovenste laag van het oppervlak wordt gemodificeerd, bijvoorbeeld door adsorptie van chloor, en vervolgens alleen die laag wordt verwijderd, bijvoorbeeld met ionen van lage energie. De hoeveelheid die per cyclus wordt weggeëtst is constant, circa 0,1 tot 0,5 nm, zodat de regeling op atoomlaagniveau nauwkeurig is, de schade aan het oppervlak klein blijft en ook het snelheidsverschil tussen dichte en open patronen klein is. ALE is het etsequivalent van ALD en begint te worden toegepast bij de bewerking van GAA en het gate-gebied.