Etsen

Hoe heet het verschijnsel dat bij plasma-etsen een geleider zoals een lange bedrading als antenne fungeert, lading verzamelt en daarmee het aangesloten gateoxide beschadigt?

  1. AARDE
  2. BDIBL
  3. CAntenne-effect (plasma-chargingschade)
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: C. Antenne-effect (plasma-chargingschade)

Aan plasma blootgestelde bedrading en gate-elektroden verzamelen lading, en als die als tunnelstroom door het dunne oxide van de aangesloten gate vloeit, degradeert of breekt het oxide. Hoe groter de oppervlakte van de geleider (antenne), hoe meer lading er wordt verzameld en hoe groter het effect. In de layout gelden daarom antenneregels die de verhouding tussen bedradingsoppervlak en gateoppervlak beperken, en op plaatsen die ze overtreden worden beschermende diodes geplaatst om de lading af te voeren of wordt de bedradingslaag gewijzigd.

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over Etsen

  1. Welke uitspraak over de kenmerken van nat etsen van silicium met een waterige oplossing van kaliumhydroxide (KOH) is juist?
  2. Welke uitspraak over de kenmerken van etsapparatuur van het type inductief gekoppeld plasma (ICP) is juist?
  3. Welke maatstaf geeft aan hoe klein de spreiding van de etssnelheid over de wafer is?
  4. Hoe heet het nog gedurende een bepaalde tijd doorgaan met etsen na detectie van het eindpunt, om de film over de hele wafer zeker te verwijderen?
  5. Hoe heet een masker van bijvoorbeeld nitride- of koolstoffilm dat wordt gebruikt wanneer fotoresist alleen niet als masker volstaat, zoals bij het etsen van diepe gaten?

Vergelijkingen bij dit onderwerp