Laagafzetting (CVD, PVD)
Welk voordeel heeft sputteren ten opzichte van vacuümopdampen?
- ADe energie van de afgezette atomen is laag
- BDe depositiesnelheid is altijd hoger
- CDe samenstelling van legerings- of verbindingstargets blijft relatief behouden bij de depositie en de laag hecht goed
Antwoord en toelichting tonen
Antwoord: C. De samenstelling van legerings- of verbindingstargets blijft relatief behouden bij de depositie en de laag hecht goed
Bij opdampen verschilt de dampspanning per component van een legering, zodat de gemakkelijker verdampende component eerst vertrekt en de samenstelling van de laag afwijkt. Bij sputteren worden atomen fysiek van het oppervlak van het target losgeslagen, zodat na stabilisatie van de oppervlaktesamenstelling afgezet kan worden met vrijwel dezelfde samenstelling als het target. Bovendien is de energie van de aankomende atomen met enkele tot enkele tientallen eV hoger dan bij opdampen (circa 0,1 eV), zodat de laag dichter is en beter hecht en gemakkelijk gelijkmatig over een groot oppervlak kan worden afgezet.