Nederlands
Menu

Laagafzetting (CVD, PVD)

Hoe heet het temperatuurbereik waarin bij ALD de laagdikte per cyclus constant is door zelfbeperkende oppervlaktereacties?

  1. AGlasovergangspunt
  2. BALD-venster (ALD window)
  3. CProcesmarge
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: B. ALD-venster (ALD window)

Bij ALD condenseert de bron of reageert onvoldoende wanneer de temperatuur te laag is, en bij een te hoge temperatuur ontleedt de bron thermisch en ontstaat CVD-achtige groei, of desorberen geadsorbeerde moleculen. Het temperatuurbereik daartussen, waarin de laagdikte per cyclus vrijwel constant is, is het ALD-venster; bij Al2O3 uit TMA (trimethylaluminium) en water is dat met circa 150 tot 300 °C breed. Afzetting binnen dit bereik is robuust tegen temperatuurvariatie en goed reproduceerbaar.

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over Laagafzetting (CVD, PVD)

  1. Welk voordeel heeft sputteren ten opzichte van vacuümopdampen?
  2. Welk type CVD-apparaat verhit alleen de tafel waarop de wafer ligt en houdt de wand van de reactor koud?
  3. Welke combinatie van bronnen wordt bijvoorbeeld gebruikt bij het afzetten van een HfO2-gate-isolatielaag met ALD?
  4. Welk model beschrijft, afhankelijk van temperatuur en gasdruk, dat een door sputteren afgezette metaallaag bij lage depositietemperatuur gemakkelijk een structuur van kolomvormige korrels met veel tussenruimten krijgt?
  5. Hoe heet bij CVD het verschijnsel dat bij wafers of patronen met een groter te bedekken oppervlak meer bronmateriaal wordt verbruikt en de depositiesnelheid daalt?

Vergelijkingen bij dit onderwerp