Nederlands
Menu

Laagafzetting (CVD, PVD)

Welke combinatie van brongassen wordt gebruikt voor het afzetten van siliciumnitride (Si3N4) met thermische CVD?

  1. ADichloorsilaan en ammoniak
  2. BSilaan en zuurstof
  3. CWolfraamhexafluoride en waterstof
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: A. Dichloorsilaan en ammoniak

Siliciumnitride door LPCVD wordt gewoonlijk gemaakt door dichloorsilaan (SiH2Cl2) en ammoniak (NH3) bij circa 700 tot 800 °C te laten reageren (3SiH2Cl2 + 4NH3 → Si3N4 + 6HCl + 6H2), wat een dichte laag met een samenstelling dicht bij de stoichiometrische oplevert. De samenstelling wordt in stand gehouden door een overmaat ammoniak aan te bieden. Is een lage temperatuur nodig, dan wordt plasma-CVD of ALD gebruikt. Silaan en zuurstof dienen voor oxide, en WF6 en waterstof voor het afzetten van wolfraam.

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over Laagafzetting (CVD, PVD)

  1. Hoe heet de methode waarbij een titaniumtarget in een stikstofhoudend gas wordt gesputterd om een titaniumnitridelaag (TiN) te vormen?
  2. Wat is een voordeel van plasma-ALD (PEALD)?
  3. Welk onderdeel van een CVD-apparaat levert het brongas gelijkmatig vanaf boven de wafer via veel kleine gaten?
  4. Welke depositiemethode vult zeer smalle, diepe sleuven van onderaf met een vloeibare laag en laat die daarna stollen?
  5. Wat wordt bij sputteren gewoonlijk gedaan om de depositiesnelheid te verhogen?

Vergelijkingen bij dit onderwerp