Nederlands
Menu

Laagafzetting (CVD, PVD)

Welke laag ontstaat wanneer bij thermische ontleding van silaan een lage depositietemperatuur wordt gebruikt?

  1. AEenkristallijn silicium
  2. BAmorf silicium
  3. CSiliciumdioxide
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: B. Amorf silicium

Een siliciumlaag door thermische ontleding van silaan is onder circa 580 °C amorf en erboven polykristallijn (polysilicium). Wanneer eerst amorf wordt afgezet en daarna langdurig bij circa 600 °C wordt uitgegloeid, groeien kristallen vanuit weinig kiemen, zodat een laag met grotere kristalkorrels (hogere mobiliteit) ontstaat dan bij rechtstreekse depositie. Bij dunnefilmtransistors (TFT) van LCD's wordt ook kristallisatie met een laser toegepast.

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over Laagafzetting (CVD, PVD)

  1. Welk voorbeeld van materialen die kenmerkend met ALD worden afgezet is juist?
  2. Wat is het belangrijkste doel van de sputtermethode waarbij gesputterde atomen worden geïoniseerd en door een op de wafer aangelegde bias loodrecht worden aangetrokken?
  3. Welk mechanisme in depositie- en etsapparatuur zet de wafer met elektrostatische kracht vast op een tafel?
  4. Welke combinatie van brongassen wordt gebruikt voor het afzetten van siliciumnitride (Si3N4) met thermische CVD?
  5. Hoe heet de methode waarbij een titaniumtarget in een stikstofhoudend gas wordt gesputterd om een titaniumnitridelaag (TiN) te vormen?

Vergelijkingen bij dit onderwerp