Laagafzetting (CVD, PVD)

Welke omstandigheden geven bij CVD een goede stapdekking (conformaliteit)?

  1. AOmstandigheden waarbij de oppervlaktereactie bepalend is (relatief lage temperatuur, lage druk en dergelijke)
  2. BOmstandigheden waarbij de toevoer van brongas bepalend is
  3. COmstandigheden waarbij het brongas met hoge snelheid uit één richting wordt aangeblazen
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: A. Omstandigheden waarbij de oppervlaktereactie bepalend is (relatief lage temperatuur, lage druk en dergelijke)

Onder oppervlaktereactiegelimiteerde omstandigheden bereikt het brongas het diepste deel van de sleuf voordat het langzaam aan het oppervlak reageert, zodat het verschil in depositiesnelheid per plaats klein is en ook op zijwanden en bodem van de trede gelijkmatig wordt afgezet. Bij relatief lage temperatuur verloopt de reactie trager en bij lage druk diffundeert het gas sneller, zodat deze omstandigheden worden benaderd. Bij toevoergelimiteerde omstandigheden wordt daarentegen de laag dikker bij de opening waar het gas gemakkelijk komt en sluit de ingang gemakkelijk af.

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over Laagafzetting (CVD, PVD)

  1. Welke laag ontstaat wanneer bij thermische ontleding van silaan een lage depositietemperatuur wordt gebruikt?
  2. Welk voorbeeld van materialen die kenmerkend met ALD worden afgezet is juist?
  3. Wat is het belangrijkste doel van de sputtermethode waarbij gesputterde atomen worden geïoniseerd en door een op de wafer aangelegde bias loodrecht worden aangetrokken?
  4. Welk mechanisme in depositie- en etsapparatuur zet de wafer met elektrostatische kracht vast op een tafel?
  5. Welke combinatie van brongassen wordt gebruikt voor het afzetten van siliciumnitride (Si3N4) met thermische CVD?

Vergelijkingen bij dit onderwerp