Nederlands
Menu

Laagafzetting (CVD, PVD)

Welk gas wordt als brongas gebruikt bij CVD van wolfraam?

  1. ATEOS
  2. BSilaan (SiH4)
  3. CWolfraamhexafluoride (WF6)
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: C. Wolfraamhexafluoride (WF6)

Bij CVD van wolfraam wordt WF6 met waterstof gereduceerd (WF6 + 3H2 → W + 6HF) om een wolfraamlaag af te zetten, en voor de initiële kiemvorming wordt onder meer silaan gebruikt. De stapdekking is goed en zelfs contactgaten met een diameter van enkele tientallen nm kunnen worden opgevuld. Bovendien is het smeltpunt hoog en is wolfraam bestand tegen degradatie door stroom, zodat het wordt gebruikt voor contactpluggen die transistors met de bedrading verbinden en voor de vorming van wordlijnen van 3D NAND.

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over Laagafzetting (CVD, PVD)

  1. Waarom wordt hoogdichtheids-plasma-CVD (HDP-CVD) gebruikt voor het opvullen van smalle sleuven met isolatiemateriaal?
  2. Welke toepassing van siliciumnitridelagen (Si3N4) is juist?
  3. Wat is het belangrijkste doel van het plaatsen van een magneet achter het target bij magnetronsputteren?
  4. Welke omstandigheden geven bij CVD een goede stapdekking (conformaliteit)?
  5. Welke laag ontstaat wanneer bij thermische ontleding van silaan een lage depositietemperatuur wordt gebruikt?

Vergelijkingen bij dit onderwerp