Welke toepassing van siliciumnitridelagen (Si3N4) is juist?

Antwoord: B. Oxidatiemasker bij LOCOS, CMP-stopper en beschermlaag (passivering) van het oppervlak

Siliciumnitride laat zuurstof, vocht en ionen zoals natrium moeilijk door, is hard en heeft een goede etsselectiviteit ten opzichte van oxide, zodat het wordt gebruikt als masker voor selectieve oxidatie (LOCOS), als CMP-stopper bij de vorming van STI, als passiveringslaag die het chipoppervlak beschermt, als etsstopper en hardmasker, als spacer van de gate en als bescherming bij zelfuitgelijnde contacten. De relatieve diëlektrische constante is circa 7, zodat het weinig tussen bedrading wordt gebruikt.