Nederlands
Menu

Laagafzetting (CVD, PVD)

Welk brongas wordt gewoonlijk gebruikt bij het afzetten van een polysiliciumlaag met LPCVD?

  1. AArgon
  2. BSilaan (SiH4)
  3. CKooldioxide
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: B. Silaan (SiH4)

Polysilicium wordt afgezet door thermische ontleding van silaan bij circa 600 tot 650 °C (SiH4 → Si + 2H2). De grootte van de kristalkorrels verandert met de depositietemperatuur, en onder circa 580 °C ontstaat amorf silicium. Het wordt gebruikt voor gate-elektroden (vóór High-k), weerstanden, elektroden van DRAM en flash en constructies van MEMS, en tijdens of na de depositie worden onzuiverheden toegevoegd om de weerstand te verlagen.

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over Laagafzetting (CVD, PVD)

  1. Welke uitspraak over vacuümopdampen is juist?
  2. Welk probleem treedt gemakkelijk op wanneer de interne spanning van een afgezette dunne laag groot is?
  3. Hoe heet de methode waarbij een vloeibaar materiaal op het midden van de wafer wordt gedruppeld en met hoge snelheid wordt rondgedraaid om een gelijkmatige laag te vormen?
  4. Welke vloeibare organosiliciumverbinding wordt veel gebruikt als brongas voor CVD van siliciumoxide?
  5. Welk gas wordt als brongas gebruikt bij CVD van wolfraam?

Vergelijkingen bij dit onderwerp