박막 증착(CVD와 PVD)

LPCVD로 폴리실리콘막을 성막할 때 일반적으로 사용되는 원료 가스는?

  1. A아르곤
  2. B실란(SiH4)
  3. C이산화탄소
정답과 해설 보기

정답: B. 실란(SiH4)

폴리실리콘은 실란을 600~650 ℃ 정도에서 열분해(SiH4 → Si + 2H2)시켜 증착합니다. 성막 온도에 따라 결정립 크기가 달라지며, 약 580 ℃보다 낮으면 비정질 실리콘이 됩니다. 게이트 전극(High-k 이전), 저항, DRAM이나 플래시의 전극, MEMS 구조체 등에 사용되며, 성막 중이나 이후에 불순물을 도입해 저항을 낮춥니다.

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