CMP en reiniging
Wat is het belangrijkste doel van een filter in de leiding waarmee slurry aan het polijstapparaat wordt toegevoerd?
- AAlle schuurdeeltjes verwijderen
- BGeaggregeerde grote deeltjes enz. verwijderen en zo krassen (scratches) op de wafer voorkomen
- CDe slurry verwarmen
Antwoord en toelichting tonen
Antwoord: B. Geaggregeerde grote deeltjes enz. verwijderen en zo krassen (scratches) op de wafer voorkomen
Schuurdeeltjes in de slurry kunnen door temperatuurveranderingen tijdens opslag, afschuiving in de leiding of drogen samenklonteren tot grote klompen, die de wafer krassen. In de toevoerleiding worden filters met een poriegrootte van enkele µm geplaatst, bijvoorbeeld na de pomp en tank en vlak voor het apparaat, die alleen grove deeltjes verwijderen en de benodigde schuurdeeltjes doorlaten. Omdat bij verstopping van het filter het debiet verandert, is ook het beheer van het vervangmoment belangrijk.