Was ist der Hauptzweck eines Filters in der Leitung, die die CMP-Anlage mit Slurry versorgt?

Antwort: B. Agglomerierte große Partikel zu entfernen und Kratzer (Scratches) auf dem Wafer zu verhindern

Die Schleifpartikel des Slurrys können durch Temperaturänderungen bei der Lagerung, Scherung in der Leitung oder Trocknung zu großen Klumpen agglomerieren, die den Wafer zerkratzen. In der Versorgungsleitung werden Filter mit einer Porengröße von einigen µm, etwa nach Pumpe und Tank sowie vor der Anlage, eingesetzt, die nur grobe Partikel zurückhalten und Schleifpartikel der erforderlichen Größe passieren lassen. Ein verstopfter Filter verändert den Durchfluss, daher ist auch die Kontrolle des Wechselzeitpunkts wichtig.