CMP en reiniging

Hoe heet het werk waarbij het oppervlak van de CMP-polijstpad met een diamantgereedschap wordt afgeslepen en geconditioneerd om de polijstsnelheid stabiel te houden?

  1. AAshing
  2. BPadconditionering (dressing)
  3. CDicing
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: B. Padconditionering (dressing)

Bij voortgezet polijsten worden de fijne oneffenheden (asperities) van het padoppervlak platgedrukt (glazing) of lopen de gaatjes in de pad vol met polijstresten, zodat slurry niet kan worden vastgehouden en de polijstsnelheid daalt. Met een conditioner met diamantkorrels wordt het padoppervlak licht afgeslepen en wordt de ruwheid hersteld, zodat de polijstsnelheid stabiel blijft. De methode waarbij dit tijdens het polijsten gelijktijdig gebeurt is de gangbare, en te sterk afslijpen verkort de levensduur van de pad.

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over CMP en reiniging

  1. Welke uitspraak over het voordeel van CMP ten opzichte van planarisatie door thermische reflow en etch-back is juist?
  2. Welke combinatie van volgorde en doel van SC-1 en SC-2 bij standaard RCA-reiniging is juist?
  3. Wat is de belangrijkste oorzaak van het omvallen van patronen bij het reinigen en drogen van patronen met een hoge aspectverhouding?
  4. Welke reden om bij wolfraam-CMP een oxidatiemiddel zoals waterstofperoxide aan de slurry toe te voegen is juist?
  5. Welke maatregel in het ontwerp tegen het feit dat de polijsthoeveelheid bij CMP afhangt van de patroondichtheid binnen de chip is juist?