CMP與清洗

以鑽石工具研削CMP研磨墊的表面並加以整理,使研磨速率穩定的作業稱為什麼?

  1. A灰化
  2. B研磨墊調整(pad conditioning,修整)
  3. C切割
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正確答案:B. 研磨墊調整(pad conditioning,修整)

持續研磨後,研磨墊表面的細微凹凸(粗糙峰)會被壓平(釉化,glazing),或研磨屑堵塞研磨墊的孔洞,導致無法保持研磨液而使研磨速率下降。以附有鑽石顆粒的修整器稍微研削研磨墊表面、使凹凸再生,即可使研磨速率穩定。以在研磨中同時進行的方式為主流,若削得過多則會縮短研磨墊的壽命。

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