CMP et nettoyage

Comment appelle-t-on l'opération consistant à racler la surface du tampon de polissage de CMP avec un outil diamanté pour la régénérer et stabiliser la vitesse de polissage ?

  1. AIncinération (ashing)
  2. BConditionnement du tampon (dressage)
  3. CDécoupe (dicing)
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Réponse : B. Conditionnement du tampon (dressage)

À mesure que le polissage se poursuit, les fines aspérités de la surface du tampon s'écrasent et s'aplatissent (glaçage), ou les débris de polissage colmatent ses pores ; le tampon ne retient plus la suspension et la vitesse de polissage baisse. Un conditionneur muni de grains de diamant racle légèrement la surface du tampon pour régénérer les aspérités et stabiliser la vitesse de polissage. La méthode dominante l'effectue simultanément au polissage ; un raclage excessif raccourcit la durée de vie du tampon.

Structure d'un équipement CMP et principe de planarisation Force d'appui Tête de polissage Plaquette retournée Plateau Rotation Rotation Arrivée de slurry Conditionneur de pad Pad de polissage Principe de planarisation Reliefs plus pressés → polis d'abord Toute la plaquette devient plane
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