Welke methode verwijdert natuurlijk oxide enz. van het oppervlak zonder vloeistof te gebruiken om het instorten van fijne structuren te voorkomen?

Antwoord: B. Droge reiniging met gasvormige gassen en radicalen

Bij hoge, dunne patronen kan de oppervlaktespanning bij het drogen van de reinigingsvloeistof de patronen naar elkaar toe trekken en doen omvallen. Bij reiniging in de gasfase (droog) met onder meer waterstoffluoridedamp of radicalen uit een plasma van NF3 en NH3 (SiCoNi-behandeling) wordt geen vloeistof gebruikt, zodat geen zorg bestaat over instorten van patronen, en kan de wafer in vacuüm met depositieapparatuur worden verbonden en direct na de behandeling zonder oxidatie naar de volgende stap gaan. Het wordt gebruikt voor het verwijderen van oxide op de bodem van contacten.