シーメンス法란?
しーめんすほう
トリクロロシランを水素で還元し、加熱したシリコンの棒の上に高純度の多結晶シリコンを析出させる製法。半導体用の原料シリコンの主な製造方法。
일본어 명칭: シーメンス法
분야: 실리콘 웨이퍼
しーめんすほう
トリクロロシランを水素で還元し、加熱したシリコンの棒の上に高純度の多結晶シリコンを析出させる製法。半導体用の原料シリコンの主な製造方法。
일본어 명칭: シーメンス法
분야: 실리콘 웨이퍼
結晶方位 酸素析出物(BMD) 偏析係数 CZ法(チョクラルスキー法) DZ(無欠陥層) FZ法(フローティングゾーン法) MCZ法(磁場印加CZ法) SOIウエハ インゴット ウエハのノッチ