反応性スパッタリング란?
はんのうせいすぱったりんぐ
金属のターゲットを、窒素や酸素などの反応性ガスを含む雰囲気でスパッタし、窒化物や酸化物の膜をつくる方法。窒化チタン(TiN)などの成膜に使われる。
일본어 명칭: 反応性スパッタリング
분야: 박막 증착(CVD와 PVD)
관련 용어
領域選択成膜 電解めっき 真空蒸着 静電チャック ALD CVD HDP-CVD(高密度プラズマCVD) LPCVD(減圧CVD) PECVD(プラズマCVD) TEOS
はんのうせいすぱったりんぐ
金属のターゲットを、窒素や酸素などの反応性ガスを含む雰囲気でスパッタし、窒化物や酸化物の膜をつくる方法。窒化チタン(TiN)などの成膜に使われる。
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분야: 박막 증착(CVD와 PVD)
領域選択成膜 電解めっき 真空蒸着 静電チャック ALD CVD HDP-CVD(高密度プラズマCVD) LPCVD(減圧CVD) PECVD(プラズマCVD) TEOS