공정 재료(가스와 케미칼)

반도체용 고순도 가스나 약액의 불순물 농도를 나타내는 데 자주 쓰이는 단위는 무엇입니까?

  1. Appb(10억분의 1)나 ppt(1조분의 1)
  2. B%(100분의 1)만
  3. Ckg
정답과 해설 보기

정답: A. ppb(10억분의 1)나 ppt(1조분의 1)

반도체용 재료에서는 금속 불순물 등을 ppb(10⁻⁹)나 ppt(10⁻¹²) 단위로 관리합니다. 웨이퍼 표면의 금속 오염은 10¹⁰ atoms/cm² 정도여도 문제가 되므로, 약액과 가스에 포함된 불순물도 그에 걸맞게 낮아야 합니다. %는 100분의 1 단위로, 반도체 재료의 불순물을 나타내기에는 너무 거칩니다. kg은 질량 단위이며 농도를 나타내는 것이 아닙니다.

이 분야 연습하기 분야로 돌아가기

공정 재료(가스와 케미칼)의 다른 문제

  1. CMP의 연마 패드에 일반적으로 쓰이는 재료는 무엇입니까?
  2. p형 불순물(붕소) 도입에 쓰이는 원료 가스로 올바른 것은 무엇입니까?
  3. 장치에 공급하기 직전의 가스에서 미량의 불순물이나 파티클을 제거하기 위해 배관에 설치하는 기기는 무엇입니까?
  4. ArF 엑시머 레이저의 발진에 쓰이는 가스의 조합으로 적절한 것은 무엇입니까?
  5. 에피택셜 성장이나 열처리에서 캐리어 가스나 환원성 분위기로 쓰이는 가스는 무엇입니까?