산화와 확산

같은 희석 불산으로 식각했을 때, 열산화막과 CVD로 성막한 산화막의 식각 속도의 일반적인 관계로 올바른 것은?

  1. A열산화막이 더 느리다(치밀하기 때문)
  2. B열산화막이 더 빠르다
  3. C둘은 반드시 같은 속도로 식각된다
정답과 해설 보기

정답: A. 열산화막이 더 느리다(치밀하기 때문)

열산화막은 치밀하고 결함이 적기 때문에 희석 불산(예를 들어 1%)에서의 식각 속도가 분당 수 nm 정도로 느립니다. CVD 산화막은 성막 조건에 따라 밀도가 낮거나 수소나 수분을 포함하므로 일반적으로 식각 속도가 빨라집니다. 열산화막에 대한 식각 속도의 비(WERR)는 막질의 기준으로 사용되며, 어닐링으로 치밀화하면 열산화막에 가까워집니다.

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