산화와 확산
건식 산화와 습식 산화의 차이, 열산화로 소모되는 실리콘의 양, 확산 계수의 온도 의존성을 객관식 문제로 학습합니다.
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산화와 확산: 핵심 정리
실리콘을 산소나 수증기 속에서 가열하면 표면에 고품질의 SiO2 막이 형성됩니다. 이를 열산화라 하며, 게이트 절연막, 소자 분리, 마스크 등에 사용되어 왔습니다.
열확산은 고온에서 원자의 확산을 이용해 불순물을 실리콘 속으로 도입하는 방법입니다. 확산은 온도에 강하게 의존하므로 온도와 시간을 세심하게 제어하는 것이 중요합니다.