산화와 확산

웨이퍼 표면 근처에서 수소와 산소를 반응시켜 짧은 시간에 양질의 얇은 산화막을 만드는 방법은?

  1. A스퍼터링
  2. BISSG(In-Situ Steam Generation) 산화
  3. C원자층 식각
정답과 해설 보기

정답: B. ISSG(In-Situ Steam Generation) 산화

ISSG 산화에서는 약 1000 Pa로 감압한 챔버 안에서 소량의 수소와 산소를 가열한 웨이퍼 표면 근처에서만 반응시킵니다. 발생한 산소 라디칼(O)은 반응성이 높아 짧은 시간에 치밀하고 계면이 좋은 얇은 산화막을 형성할 수 있습니다. 면방위에 따른 속도 차이가 작고 STI 홈의 모서리도 둥글고 균일하게 산화할 수 있어, 라이너 산화막이나 게이트 산화막, 질화막의 재산화 등에 사용됩니다.

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