식각

폴리실리콘 게이트의 건식 식각에 자주 사용되는 가스는?

  1. A질소(N2)
  2. B헬륨(He)
  3. C염소(Cl2)나 브롬화수소(HBr) 등의 할로겐계 가스
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정답: C. 염소(Cl2)나 브롬화수소(HBr) 등의 할로겐계 가스

폴리실리콘 식각에는 염소나 브롬화수소 등의 할로겐계 가스가 자주 사용됩니다. 실리콘과 반응하여 휘발성의 SiCl4나 SiBr4가 되는 한편, 산화막과는 거의 반응하지 않기 때문에 하지의 얇은 게이트 산화막에 대해 100 이상의 높은 선택비를 얻을 수 있습니다. HBr은 측벽에 보호막을 만들기 쉬워 수직 형상을 얻기 쉽다는 장점도 있습니다. 산소를 조금 첨가하여 보호막의 양을 조정합니다.

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