박막 증착(CVD와 PVD)

스퍼터된 원자를 이온화하여 웨이퍼에 건 바이어스로 수직으로 끌어당기는 스퍼터 방식의 주된 목적은 무엇인가?

  1. A깊은 홀이나 트렌치 바닥부로의 막 도달성(바텀 커버리지)을 개선한다
  2. B성막 속도를 느리게 한다
  3. C막의 색을 바꾼다
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정답: A. 깊은 홀이나 트렌치 바닥부로의 막 도달성(바텀 커버리지)을 개선한다

일반 스퍼터에서는 원자가 여러 방향에서 날아오므로 깊은 홀의 바닥에는 막이 붙기 어렵습니다. 이온화 스퍼터(iPVD)에서는 타깃에서 튀어나온 원자를 고밀도 플라즈마 속에서 이온화하고, 웨이퍼에 건 바이어스로 수직으로 끌어당기므로 종횡비가 높은 홀의 바닥까지 막을 붙이기 쉬워집니다. 또한 바닥의 막을 재스퍼터하여 측벽으로 돌려보낼 수도 있으며, Cu 배선의 배리어층이나 시드층 형성에 사용됩니다.

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