Quelle méthode est utilisée pour mesurer sans contact la résistivité d'un wafer ?

Réponse : C. Mesure par courants de Foucault

L'application d'un champ magnétique alternatif induit dans le wafer des courants de Foucault dont l'intensité dépend de la conductivité (résistance carrée). Leur détection par une bobine permet de mesurer la résistivité sans toucher le wafer. Contrairement à la méthode des quatre pointes, elle n'endommage pas la surface et n'apporte aucune contamination ; elle est utilisée pour le contrôle de réception des wafers et la mesure de l'épaisseur des couches métalliques (déduite de la résistance carrée). Une cartographie permet aussi d'évaluer la distribution sur le wafer.