Plaquettes de silicium

Quelle méthode irradie du silicium FZ par des neutrons pour transformer une partie du silicium en phosphore et obtenir un type n uniforme ?

  1. ADopage par transmutation neutronique (NTD)
  2. BImplantation ionique
  3. CDiffusion thermique
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Réponse : A. Dopage par transmutation neutronique (NTD)

Sous irradiation neutronique, l'isotope Si-30, présent à environ 3 % dans le silicium, absorbe un neutron et devient Si-31, qui se désintègre par β avec une demi-vie d'environ 2.6 heures en phosphore (P-31). Les neutrons atteignant uniformément l'ensemble du cristal, on obtient des wafers de type n très uniformes, avec une dispersion de résistivité de quelques % ou moins, impossible à atteindre par le dopage ordinaire sujet à la ségrégation. Comme un réacteur nucléaire est nécessaire, l'approvisionnement est limité ; ces wafers servent aux composants de puissance haute tension (thyristors et IGBT).

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