Quelle combinaison de constituants principaux d'une résine photosensible à amplification chimique est correcte ?

Réponse : A. Résine de base, générateur photo-acide (PAG), solvant

Une résine à amplification chimique se compose principalement d'une résine de base, d'un générateur photo-acide (PAG) et d'un solvant, auxquels on ajoute notamment un quencher limitant la diffusion de l'acide. L'acide produit par le PAG lors de l'exposition agit comme catalyseur pendant le recuit post-exposition (PEB) : une seule molécule retire de nombreux groupements protecteurs et modifie la solubilité de la résine. Cette amplification augmentant fortement la sensibilité, ces résines sont utilisées en lithographie KrF, ArF et EUV, où la lumière est faible.