Nederlands
Menu

Procesmaterialen (gassen, chemicaliën)

Welke combinatie van hoofdbestanddelen van chemisch versterkte fotoresist is juist?

  1. ABasishars, fotozuurgenerator (PAG) en oplosmiddel
  2. BKoperdeeltjes en water
  3. CEenkristallijn silicium en zuurstof
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: A. Basishars, fotozuurgenerator (PAG) en oplosmiddel

Chemisch versterkte resist bestaat hoofdzakelijk uit basishars, fotozuurgenerator (PAG) en oplosmiddel, met toevoegingen zoals een quencher die de diffusie van het zuur onderdrukt. Het door belichting uit de PAG gevormde zuur werkt tijdens de post-exposure bake (PEB) als katalysator en verwijdert met één molecuul vele beschermende groepen, waardoor de oplosbaarheid van het hars verandert. Omdat deze versterking de gevoeligheid sterk verhoogt, wordt het gebruikt bij KrF-, ArF- en EUV-belichting, waar het licht zwak is.

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over Procesmaterialen (gassen, chemicaliën)

  1. Welke uitspraak over de kenmerken van fosfine (PH3) en arsine (AsH3), die worden gebruikt voor het inbrengen van n-type onzuiverheden, is juist?
  2. Wat is het belangrijkste gebruik van stikstoftrifluoride (NF3)?
  3. Welke eenheden worden vaak gebruikt om de onzuiverheidsconcentratie van hoogzuivere gassen en chemicaliën voor halfgeleiders uit te drukken?
  4. Welk materiaal wordt gewoonlijk gebruikt voor het polijstkussen bij CMP?
  5. Welk bronmateriaal is juist voor het inbrengen van p-type onzuiverheden (boor)?