공정 재료(가스와 케미칼)
화학 증폭형 포토레지스트의 주된 구성 요소의 조합으로 올바른 것은 무엇입니까?
- A베이스 수지, 광산 발생제(PAG), 용제
- B구리 입자와 물
- C실리콘 단결정과 산소
정답과 해설 보기
정답: A. 베이스 수지, 광산 발생제(PAG), 용제
화학 증폭형 레지스트는 베이스 수지, 광산 발생제(PAG), 용제를 주성분으로 하고, 산의 확산을 억제하는 퀜처 등을 첨가한 것입니다. 노광으로 PAG에서 생긴 산은 노광 후 베이크(PEB) 동안 촉매로 작용하여, 하나로 많은 보호기를 떼어내 수지의 용해성을 바꿉니다. 이 증폭 작용으로 감도가 크게 오르기 때문에 빛이 약한 KrF, ArF, EUV 노광에 쓰입니다.